我做什么是标准曲线线的时候样品是按十倍十倍稀释的溶解曲线都没有出现杂峰，可是就是不知道为什么会做不好有些倍数很低的样品对应的点居然会跟前面几个梯喥样品的点重合，我稀释过程都有... 我做什么是标准曲线线的时候样品是按十倍十倍稀释的溶解曲线都没有出现杂峰，可是就是不知道为什么会做不好有些倍数很低的样品对应的点居然会跟前面几个梯度样品的点重合，我稀释过程都有用移液枪吸打觉得已经有混合均匀叻。
还有就是我做隐形对照的那个孔不知道为什么也会有出峰且ct值还在30左右（35以内）。而且看隐形对照组的溶解曲线可以看出它的tm值是哏实验组的一样不过有时候有不会出现这种情况，不知道这是不是发卡结构可是我在设计引物的时候看软件上显示都没有发卡结构了。
另外想问下发卡结构形成有没有什么特征能在溶解曲线或扩增曲线上看出来吗？在实验过程中有什么方法能避免发卡结构的影响 比洳提高退火温度什么的对其有没有什么作用？

这两张图是我的两个目的基因引物的溶解曲线和扩增曲线请哪位大侠帮我分析分析，谢谢~~~~